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多功能電阻+電子束蒸發(fā)設(shè)備

適用于常規(guī)低熔點金屬的蒸鍍，例：金、銀、銅、鋁、鉻、鉑、鋅、硅等，

也適用于蒸鍍難熔金屬和非金屬材料，例：SiO2、AL2O3、MO、Ti、Zr、V、 Nb等；

可應(yīng)用于制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜等；

可根據(jù)用戶需求配備不同規(guī)格e型電子槍蒸發(fā)源和電阻蒸發(fā)源。

1：設(shè)備型號：BC-EVP1-600

技術(shù)參數(shù)（以下參數(shù)可根據(jù)用戶需求定制）

真空室結(jié)構(gòu)：立式圓柱形前開門，后置真空抽氣機組。

真空室尺寸：內(nèi)部尺寸600㎜×750㎜。

真空室材質(zhì)：全部采用不銹鋼材料焊接。

真空室加熱：室內(nèi)溫度≤500℃

旋轉(zhuǎn)基片臺： 傘型基片架

控制電源：蒸發(fā)電源,偏壓電源

控制方式:   PLC全自動和半自動控制模式

占地面積：  長3100㎜×寬2200㎜×高2600㎜

總功率KW： 380V  30KW

2：設(shè)備型號：BCEVP2-600

技術(shù)參數(shù)（以下參數(shù)可根據(jù)用戶需求定制）

    真空室結(jié)構(gòu)：立式圓柱形前開門，后置真空抽氣機組。

真空室尺寸：內(nèi)部尺寸600㎜×750㎜。

真空室材質(zhì)：全部采用不銹鋼材料焊接。

真空室加熱：室內(nèi)溫度≤500℃

旋轉(zhuǎn)基片臺：電子槍旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)臺

控制電源：電子槍電源,偏壓電源

控制方式:   PLC全自動和半自動控制模式

占地面積：  長3100㎜×寬2200㎜×高2600㎜

總功率KW： 380V  30KW

3：設(shè)備型號：BCEVP3-600

技術(shù)參數(shù)（以下參數(shù)可根據(jù)用戶需求定制）

設(shè)備名稱：多功能電子束＋電阻蒸發(fā)設(shè)備

真空室結(jié)構(gòu)：立式圓柱形前開門，后置真空抽氣機組。

真空室尺寸：內(nèi)部尺寸600㎜×750㎜。

真空室材質(zhì)：全部采用不銹鋼材料焊接。

真空室加熱：室內(nèi)溫度≤500℃

旋轉(zhuǎn)基片臺：電子槍旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)臺 ＋電組蒸發(fā)舟

控制電源：電子槍電源,蒸發(fā)電源,偏壓電源

控制方式:   PLC全自動和半自動控制模式

占地面積：  長3100㎜×寬2200㎜×高2600㎜

總功率KW： 380V  40KW